真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。 在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要...

北京环球金鑫国际科技有限公司采用高纯化合物粉末为原料，通过常压烧结法、真空热压法以及热等静压法等工艺成型，经过精密机械加工而成，靶材晶粒度小、纯度高、致密度高。 陶瓷类靶材本身质脆且导热性差。建议绑定铜背靶！背靶材料是具有良好的导电性和导热性的无氧铜，一般选择2-3mm厚度，采用金属铟进行焊接绑定。 使用注意事项：1、靶材清洁：清洗建议用“无绒布”进...

一、溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。1、为保持镀膜的成分特性，溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。2、暗区屏蔽罩...